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2023-12-25 00:37duv光刻机专利有效期应该是20年。
duv光刻机专利作为国际发明专利，有效期一般是20年。duv光刻机这里指02专项中的193nm浸没式光刻机，项目周期是2016年---2020年，按理说就算是拖个一年，也就是2021年内按常规的项目验收标准也应该可以结项了，所以上海微电子去年年底就出了28纳米光刻机。
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