光刻机是受制于专利还是技术？

光刻机是一种高精度、高技术含量的设备，其涉及的技术种类繁多，有光学、机械、电子、控制等多个方面的技术要求，因此它的开发和制造需要涉及多个领域的专业知识和技术。光刻机的核心技术是光刻技术，光刻技术是半导体制造中最重要、最关键的技术之一。在光刻技术领域，许多技术涉及到专利，因此光刻机的开发和制造也受限于专利的保护。

但是，光刻机的发展与制造也不仅仅受制于专利，还受制于技术。随着科学技术的迅猛发展，光刻机的制造技术也在不断改进和提高，可以看到市场上的光刻机不仅仅是众所周知的国际厂商，还有本土厂商，他们同样拥有自己的技术和专利。因此，光刻机的发展还取决于技术的创新和发展。

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